段微波 研究员

  

  一、基本信息      

  姓    名:段微波                           

  性    别:男                                  

  籍    贯:湖北襄阳                         

  出生年月:1981年12月                             

  毕业院校:中国科学院研究生院                                                             

  学历学位:研究生/博士                            

  技术职务:研究员                          

  导师类别:博导                          

  工作部门:中国科学院上海技术物理研究所 八室        

  联系电话:021-25051309                        

  电子邮箱:duanweibo@mail.sitp.ac.cn                                    

  二、工作简历      

  2009.03至今  中国科学院上海技术物理研究所。        

  现任中国科学院上海技术物理研究所八室主任。        

  三、学术兼职      

  上海市红外与遥感学会会员

上海市激光学会会员

中国激光杂志社审稿人  

  四、科研工作简介      

段微波主要从事光学薄膜技术及其航天工程化应用工作,主要研究方向包括微纳光学与光谱调控、薄膜器件光谱数值量化、光学薄膜的位相与偏振态控制、宽光谱分色与带外抑制、高集成度光学薄膜器件以及新型薄膜器件在高光谱成像系统中的应用等。近年来在国内外期刊发表论文三十余篇,其中超过20篇被SCI收录,申请和授权发明专利十余项;主持和承担国家航天型号任务5项,主持国家重点研发项目子课题1项,主持上海市科委“揭榜挂帅”项目1项,作为项目负责人完成国家自然科学基金1项。其承担的代表性科研项目情况如下:

1.上海市“揭榜挂帅”项目“高功率红外光学镜片制造与测量A”,上海市科委,项目负责人。

2.国家重点研发计划“碳化硅光机构件表面光学功能层设计与制备技术”,科学技术部,子课题负责人。

3.Fx-4气象卫星先进的静止轨道辐射成像仪,航天型号重点任务,光学薄膜子系统负责人。

4.  国家自然科学基金(青年)项目“模拟空间环境对星地量子通信系统中保偏反射镜偏振对比度作用机制及提高反射镜环境适应性方法研究”,国家自然科学基金委,项目负责人。      

  五、主要获奖成果      

1. 2020年上海市技术发明一等奖(面向航天应用的多维度精确调控红外光学薄膜元器件关键技术)。

2. 2020年第六届中国光学工程学会科技进步二等奖(面向空间量子实验的二维转台跟瞄系统)。          

  六、代表性论文专利      

1.段微波,刘保剑,庄秋慧,等.应用于空间遥感系统的红外光学薄膜进展(特邀)[J].光子学报,2022,51(09):0951601-1~17.※封面论文※

2.段微波, 李大琪, 刘保剑, 等.空间原子氧对保偏反射镜偏振对比度的影响[J]. 光学学报, 2018, 38(11): 400~404. ※封面论文※

3.Baojian LIU, Daqi LI, Weibo DUAN※,et al. High-reliability infrared broadband thin-film polarizing beam splitter with ZnSe compensation layers[J].Optics Express,2024,32(7):10910~10924.

4.Lin JIANG, Yang QIN, Weibo DUAN※, et al. NIR to LWIR dichroic beamsplitter designed and manufactured for space optical remote sensor[J].Coatings,2024,235(14):1~12.

5.刘保剑,段微波※,李大琪,等.退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响[J].物理学报,2019,68(11):114208-1~7.

6.LIU Bao-Jian, DUAN Wei-Bo※, LI Da-Qi, et al. The influence of annealing temperature on the structure and optical properties of silicon films deposited by electron beam evaporation[J].J.Infrared Millim. Waves,2020,39(01):1~5.

第一发明人已获得授权发明专利:

1. 一种光栅多级次光谱和红外背景辐射抑制的光学滤光片,ZL202010965517.x。

2. 一种用于超光谱成像系统中的消二级光谱集成滤光片,ZL201410258907.8。

3. 一种宽光谱带外抑制光学滤光片,ZL201310148794.1。

4. 一种偏振态位相可调控宽光谱反射镜,ZL201310593845.1。

  七、培养学生情况      

截至2024年10月,在读博士生2人,在读硕士生3人。

已毕业博士生1人,已毕业硕士生1人。就业率:100%。

主要就业去向:高校任教、高技术企业。      

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