一、基本信息
姓 名:段微波
性 别:男
籍 贯:湖北襄阳
出生年月:1981年12月
毕业院校:中国科学院研究生院
学历学位:研究生/博士
技术职务:研究员
导师类别:博导
工作部门:中国科学院上海技术物理研究所 第八研究室
联系电话:021-25051309
电子邮箱:duanweibo@mail.sitp.ac.cn
二、工作简历
2009.03至今 中国科学院上海技术物理研究所。
现任中国科学院上海技术物理研究所党委委员,第八研究室主任。
三、学术兼职
中国光学学会光学薄膜专业委员会副主任委员
上海市光学学会光学薄膜专业委员会主任
中国激光杂志社审稿人
四、科研工作简介
主要从事光学薄膜技术及其航天工程应用工作,主要研究方向包括微纳光学与光谱调控、薄膜器件光谱数值量化、光学薄膜的位相与偏振态控制、宽光谱分色与带外抑制、高集成度光学薄膜器件以及新型薄膜器件在高光谱成像系统中的应用等。近年来在国内外期刊发表SCI论文50余篇,申请和授权发明专利20余项;主持和承担国家航天型号任务17项,主持中国科学院重点部署项目课题1项;作为项目负责人完成国家自然科学基金1项,上海市科委“揭榜挂帅”项目1项。其承担的代表性科研项目情况如下:
1.中国科学院重点部署课题“中红外宽角度透射复合膜系制备”负责人。
2.上海市“揭榜挂帅”项目“高功率红外光学镜片制造与测量A”,上海市科委,项目负责人。
3.国家重点研发计划“碳化硅光机构件表面光学功能层设计与制备技术”,科学技术部,子课题负责人。
4.Fx-4气象卫星先进的静止轨道辐射成像仪,航天型号重点任务,光学薄膜子系统负责人。
5.Kx-11中高轨量子科学实验卫星量子光传输分系统,国家重大专项,光学薄膜子系统负责人。
五、主要获奖成果
1. 2020年度上海市技术发明一等奖(面向航天应用的多维度精确调控红外光学薄膜元器件关键技术)。
2. 2020年度中国光学工程学会科技进步二等奖(面向空间量子实验的二维转台跟瞄系统)。
3. 2024年度上海市技术发明二等奖(宽波段精细光谱调控薄膜关键技术及航天应用)。
4. 2024年度中国科学院杰出科技成就奖(星载全谱段高光谱成像探测识别技术)。
5. 2024年度中国电子学会科技进步一等奖(星载宽谱宽幅可见短波红外高光谱成像系统及应用)。
六、代表性论文专利
第一作者或通讯作者代表性文章:
1.段微波,刘保剑,庄秋慧,等.应用于空间遥感系统的红外光学薄膜进展(特邀)[J].光子学报,2022,51(09):0951601-1~17.※封面论文※
2.段微波, 李大琪, 刘保剑, 等.空间原子氧对保偏反射镜偏振对比度的影响[J]. 光学学报, 2018, 38(11): 400~404. ※封面论文※
3.Jiao Qi, Hong Zhou, Zhiping Zhang, Jiajie Fan, Rong He, Yuxiang Zheng, Weibo Duan※, Rongjun Zhang※, Junhao Chu. Modulation of multidimensional interfacial effects in different stacking Bi2Se3/WS2 heterojunctions[J]. Applied Surface Science, 2025,712(164155):1~10.
4.Qiuyu Zhang, Dingquan Liu※, Sheng Zhou, Kaixuan Wang, Gang Chen, Baojian Liu, Yujia Geng, Bojie Jia, Weibo Duan※. Wide-angle, high-efficiency dot array projection based on particle swarm optimized metasurface with high degrees of freedom[J]. Physica Scripta, 2025, 100(105516):1~12.
5.Baojian LIU, Daqi LI, Weibo DUAN※,et al. High-reliability infrared broadband thin-film polarizing beam splitter with ZnSe compensation layers[J].Optics Express,2024,32(7):10910~10924.
6.Lin JIANG, Yang QIN, Weibo DUAN※, et al. NIR to LWIR dichroic beamsplitter designed and manufactured for space optical remote sensor[J].Coatings,2024,235(14):1~12.
7.刘保剑,段微波※,李大琪,等.退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响[J].物理学报,2019,68(11):114208-1~7.
8.LIU Bao-Jian, DUAN Wei-Bo※, LI Da-Qi, et al. The influence of annealing temperature on the structure and optical properties of silicon films deposited by electron beam evaporation[J].J.Infrared Millim. Waves,2020,39(01):1~5.
第一发明人已获得授权发明专利:
1.一种光栅多级次光谱和红外背景辐射抑制的光学滤光片,ZL202010965517.x。
2.一种用于超光谱成像系统中的消二级光谱集成滤光片,ZL201410258907.8。
3.一种宽光谱带外抑制光学滤光片,ZL201310148794.1。
4.一种偏振态位相可调控宽光谱反射镜,ZL201310593845.1。
5.一种偏振分光镜及其制备方法和应用,ZL202411514738.X。
七、培养学生情况
截止2026年7月,在读博士生5人,在读硕士生2人。
已毕业博士生1人,已毕业硕士生2人。就业率:100%。
主要就业去向:高校任教、高技术企业。
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